Zemax公差分析提供三种方法：（1）灵敏度法（Sensitivity）——逐一引入各公差扰动，分析每个参数对系统性能的灵敏度。（2）反灵敏度法（InverseSensitivity）——给定性能容限，反推各参数可允许的公差范围。（3）蒙特卡罗法（MonteCarlo）——在所有公差范围内随机抽样，模拟实际生产批次中性...  阅读全文>>

公差分析需系统评估微小扰动对光学性能的影响，误差来源可分为四大类：（1）制造公差——不正确的曲率半径、组件过厚或过薄、镜片外型不正确、曲率中心偏离机构中心、不正确的Conic值或其他非球面参数。（2）材料误差——折射率准确性、折射率同质性、折射率分布、阿贝数（色散）偏差。（3）组装公差——组件偏离机构中心（X,Y）、组...  阅读全文>>

补偿器是公差分析中可调的参数。公差分析中不可能对所有公差都提供调整——这会过于繁琐且成本高昂。因此当残余公差（扰动）固定后，选择若干补偿器来调校光学系统。聚焦是最常见的补偿器。当怀疑存在由制造公差导致的元件倾斜和偏心时，倾斜也可用作补偿器。...  阅读全文>>

在公差分析中，MFE通常仅为EFFL操作数设置权重，其他操作数的weight设为0。目的是单独评估EFL的公差灵敏度——如果多个操作数都有权重，Zemax会计算所有设权重的操作数的RMS评价函数值，无法单独评估EFL的变化。...  阅读全文>>

遵循从低敏感到高敏感的顺序：第一步——固定元件中心厚度（透镜性能对厚度不如对半径和空气间隔敏感），如需则重新优化。第二步——固定空气间隔，如需则重新优化。第三步——逐一固定表面半径（半径对性能影响最大），每次固定后重新优化，直到全部完成。这种逐步固定策略确保在每一步都能通过重新优化来补偿前一步固定带来的性能损失。...  阅读全文>>

在优化完成后，固定曲率半径、中心厚度和元件尺寸后执行公差分析。公差分析涉及确定透镜系统对公差的灵敏度（灵敏度分析）和估算良率（yieldestimation）。公差分析不必是最后一步——可在优化与公差分析之间来回切换。Zemax中至少有两个操作数可用于降低公差灵敏度：TOLR和HYLD。有时将公差灵敏度直接纳入MFE中...  阅读全文>>

在ScaleLens对话框中输入缩放因子和面数。例如50mmEFL缩放到1mm，缩放因子=1/50=0.02。缩放后像差随尺寸缩放（百分比畸变除外），波长不变。微型透镜像差更容易设计，但主要挑战在制造方面和空间带宽积。缩放到更大尺寸时问题更严重——像差被放大，MTF下降。缩放保持f数意味着Airydisk大小固定，透镜...  阅读全文>>

在序列模式中构建LensArray：将SurfaceType设为UserDefined，然后在SurfaceDLL下拉菜单中选择EVENARRY.DLL或US_ARRAY.DLL即可快速建立透镜阵列。在NSC模式中则需利用CAD软件先建模透镜阵列，保存为IGES格式后导入Zemax中——此方法适合复杂非周期性阵列结构。...  阅读全文>>

偶次非球面（EvenAsphere）通过在球面或二次曲面上加上仅含径向坐标偶数次幂的多项式来描述面型，使用基本曲率半径和二次曲面系数，非球面系数最高支持到16次幂。扩展非球面（ExtendedAsphere）可支持高达480次幂的非球面系数，且在多项式系数计算方法上略有不同。选择原则：一般非球面透镜使用EvenAsph...  阅读全文>>