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半导体

Wafer FAB Process-黄光区

时间:2024/5/5 13:18:53   作者:郑士利   来源:正势利   阅读:34   评论:0
内容摘要:使用黄光区的原因:1:500纳米波长以上的光不会对光刻胶产生影响2:相比其他颜色空间,黄光比较能让人适应。Line颜色波长-纳米频率-兆赫1红色625-740405-4802橙色590-625480-5103黄色565-590510-5304绿色500-565530-6005青色485-500600-6206蓝色440...

使用黄光区的原因:

1:500纳米波长以上的光不会对光刻胶产生影响

2:相比其他颜色空间,黄光比较能让人适应。

Line 颜色 波长-纳米 频率-兆赫
1 红色 625-740 405-480
2 橙色 590-625 480-510
3 黄色 565-590 510-530
4 绿色 500-565 530-600
5 青色 485-500 600-620
6 蓝色 440-485 620-680
7 紫色 390-440 680-750
Wafer_FAB_Process-黄光区

《为什么光刻区要用黄光灯?》


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