工程漫射体
产品说明
用途：消除光束的空间不均匀性，改善光束的质量
工,波长400 nm-2000 nm
带安装工程漫射体兼容30 mm同轴系统
LBTEK提供的工程漫射体采用光刻技术在高分子聚合物表面镀上形状规则、,立控制的微结构单元，允许较宽波长范围的光束透过，可用于改变入射光束光强分布，提供非高斯型强度分布。LBTEK工程漫射体设计用于Ø0.5 mm或更大的激光束，若光束尺寸不足Ø0.5 mm，在散射之前需要扩束。我们提供未安装和已安装于SM05/SM1/SM2透镜套筒中的工程漫射体。安装套筒带有刻字便于快速识别产品型号，并可保护元件免受指纹和其他污染物的损伤。已安装的工程漫射体兼容30 mm同轴系统。
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