半导体

Wafer FAB Process-黄光区

时间：2024-05-05 13:18:53 作者：郑士利来源：正势利阅读：820 评论：0

内容摘要：使用黄光区的原因：1：500纳米波长以上的光不会对光刻胶产生影响2：相比其他颜色空间，黄光比较能让人适应。Line颜色波长-纳米频率-兆赫1红色625-740405-4802橙色590-625480-5103黄色565-590510-5304绿色500-565530-6005青色485-500600-6206蓝色440...

使用黄光区的原因：

1：500纳米波长以上的光不会对光刻胶产生影响

2：相比其他颜色空间，黄光比较能让人适应。

Line	颜色	波长-纳米	频率-兆赫
1	红色	625-740	405-480
2	橙色	590-625	480-510
3	黄色	565-590	510-530
4	绿色	500-565	530-600
5	青色	485-500	600-620
6	蓝色	440-485	620-680
7	紫色	390-440	680-750

《为什么光刻区要用黄光灯？》

逝者如斯，不舍昼夜 作者QQ及微信：49922779

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