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光学设计ZEMAX

目前光学设计工作的过程

时间:2017/9/24 18:53:54   作者:郑士利   来源:正势利   阅读:768   评论:0
内容摘要:1、由使用要求提出对光学系统的合理要求   焦距(放大率)   孔径(相对孔径、入瞳直径、数值孔径)   视场(线视场、视场角)   工作距离、总长度、最大口径等   像质要求(点列图大小、MTF、波像差(RMS或PV值、Zernike多项式)2、用高斯光学对光学原理图进行分析 ...
1、由使用要求提出对光学系统的合理要求
   焦距(放大率)
   孔径(相对孔径、入瞳直径、数值孔径)
   视场(线视场、视场角)
   工作距离、总长度、最大口径等
   像质要求(点列图大小、MTF、波像差(RMS或PV值、Zernike多项式)
2、用高斯光学对光学原理图进行分析
   物像关系、光束限制、能量、外形尺寸等,必要时进行高斯解优化
3、确定光学系统的初始结构,并求初始解
   资料、经验、可能的计算
4、对初始解进行像差校正,得到光学系统结构参数
   包括选择材料、多次的优化、并可能反复
5、进行光学系统公差设计和分析
   公差分析、杂散光分析、温度效应分析(根据工作环境)
6、产生光学系统图和零部件图,并给出设计报告和各种分析报告。











 




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